Hallo, hat hier jemand schon einmal Solarzellen (Silizium, Mono oder Polykristallin) mit einem Lasercutter geschnitten? Industriell wird es ja gemacht, allerdings wurde bei jedem Artikel den ich dazu gelesen habe irgend ein spezieller Laser verwendet. Ich möchte es auf einem ziemlich "normalen" Epilog CO2 Laser versuchen. Ich könnte es ja einfach versuchen aber ich frage mich ob da nicht evt. ziemlich schädliche Stoffe freigesetzt werden könnten. Zum Beispiel habe ich ein Paper zum Laserschneiden von GaAs Zellen gesehen und das ist überhaupt nicht empfehlenswert. Silizium Zellen sind wahrscheinlich nich so schlimm(?) Das Silizium selbst sollte kein Problem sein aber vielleicht andere Elemente die zum dotieren verwendet wurden? Der Grund warum ich sie nicht einfach ritze und breche ist, dass ich komplexere Formen möchte. ich würde mich über Eure Meinungen/Ratschläge dazu freuen! Grüsse, Nils
Du musst ein wenig aufpassen, dass Du Dir mit der Schmelze keine Kurzschlüsse entlang der Schnittkanten produzierst. Außerdem baust Du Dir Störstellen ins Gitter ein, die das Konstrukt mechanisch empfindlicher machen. Durch kommst Du mit dem CO2 auf jeden Fall. Vielleicht ist ein abtragendes Verfahren günstiger - kleinere Wellenlänge (z.B. die gängigen 1064 nm Beschriftungslaser), und die Kontur mit einem Galvo-Scanner ein paar hundert Mal abfahren (je nach Leistungsdichte bzw. Abtragtiefe pro Durchgang)
Hi, ich hab das neulich probiert, mit einem 100W CO2 Laser und mit 200W Yb:YAG (unter NB2). Mit beiden ließen sich die ca. 0.6 mm dicken polykristallinen Si-Zellen schneiden, aber in beiden Fällen hatte sie hinterher kaum noch Leistung wohl wegen der von 'Ich' erwähnten Kurzschlüsse. Ihre volle Leistung hatten die Zuschnitt erst wieder nachdem ich die Kanten vorsichtig abgeschliffen habe. Das ist aber mühsam und geht auch noch mit einfachen Formen und die dünne Zellen zerbrechen dabei sehr leicht. Ich werde bei Gelegenheit noch ein paar Versuche machen, bisher aber war das so noch nix. Grüße Flo
Hallo Wenn die Schichten der Zelle durch Schmelzen ungünstig beeinflusst wurden, sehe ich als einzige Möglichkeit, den beschädigten Dotierungsverlauf wie schon beschrieben, abzutragen. Geht es schlecht mit Schleifen, weil die Siliziumscheibe recht spröde ist, könnte man es mit Ätzen versuchen. MfG
Hi Matthias, ätzen hab ich auch schon überlegt, aber wo mit. Ich dachte mir, ich könnte die ganze Zelle oben und unten beschichten (Positiv 20 vielleicht), lasern, ätzen, entschichten. Positiv 20 ginge mit Natronlauge weg, ob das der Zelle schadet weiß ich nicht. Grüße Flo
Ja, Foto-Positiv-Spray geht mit Natronlauge weg. Mit Natronlauge kann man aber auch das Silizium ätzen, als ungiftigere und billigere Alternative zur Flussäure. Du bräuchtest dazu also eine entfernbare Beschichtung, die NaOh-Lauge beständig ist, grübel... Ich beschichte(mehr so bekleckern..) zum Beispiel eine Glasplatte mit in Aceton gelöstem ABS-Kunststoff. Vielleicht geht das? Vielleicht kennt ein anderer Leser einen brauchbaren Lack. Ich habe aber keine direkte "chemische Erfahrung" mit dem Thema, schau mal bei Wikipedia, Silizum, Reaktionen usw.. MfG Matthias
Kolophonium oder Schellack lassen sich mit Alkohol entfernen. Nitrocellulose-lack (z.B. als Möbellack) ließe ich mit Aceton oder Verdünnung entfernen. Auch viele Acryl basiere Lacke lösen sich durch Aceton ab. Ob die Lacke Allerdings beständig gegen ggf. auch noch heiße Natronlauge bzw. Flusssäure sind weiss ich nicht. Das ätzen mit Natronlauge ist ja auch eher eine langwierige Prozedur.
Bitte melde dich an um einen Beitrag zu schreiben. Anmeldung ist kostenlos und dauert nur eine Minute.
Bestehender Account
Schon ein Account bei Google/GoogleMail? Keine Anmeldung erforderlich!
Mit Google-Account einloggen
Mit Google-Account einloggen
Noch kein Account? Hier anmelden.