Hey Leute! Wollte mal fragen wie das Fotoresist von Bungard Platinen chemisch aufgebaut ist. Es ist mit Aceton und Ethanol löslich (man kanns von der Platine wischen) und nach dem Belichten mit UV-A ist es mit 1% NaOH Lösung entfernbar. Wenn die NaOH zu stark ist, dann löst sich der komplette Lack ab. Habt ihr ne Ahnung?
http://de.wikipedia.org/wiki/Fotolack Das müsste ein Polymer sein, in dem eine Substanz ist, die freie Radikale unter UV Licht bildet. Diese zerstören dann die Struktur und machen es anfällig gegen NaOH.
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