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Forum: Platinen Probleme mit Salzsäure und Bungard-Basismaterial


Autor: Markus Protze (adipin)
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Hallo!

Ich stelle schon länger hobbymäßig selbst Platinen her. Das Ätzen mit 
Salzsäure + Wasserstoffperoxyd hat auch immer gut geklappt, bis ich 
neuerdings Probleme mit Photobeschichtetem Material bekam. Belichten und 
entwickeln läuft super, aber dann gehts los: nach kurzer Zeit im Ätzbad 
lösen sich von dem Photolack immer schichtweise Teilbereiche ab, bis am 
Ende mein Layout stückweise oben auf der Ätzlösung schwimmt. Natürlich 
ist die Platine dann hinüber... Ich habe auch schon Versuche mit absolut 
unbelichtetem Material gemacht, selbes Ergebniss. Eine Mail an Bungard 
brachte leider keine Reaktion. Bin vorerst "zurück" auf Natriumpersulfat 
umgestiegen, damit klappts wieder ordentlich.

Hat jemand schonmal sowas erlebt und / oder eine Idee woran es liegt?

Danke!

Autor: Michael G. (linuxgeek) Benutzerseite
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Du solltest vielleicht mit Natriumpersulfat aetzen. Ist sicherer im 
Umgang und offensichtlich mit manchen Basismaterialien auch besser 
vertraeglich. Vielleicht hast Du auch nur Deine Loesung zu stark 
angesetzt?

Autor: JÜrgen Grieshofer (Firma: 4CKnowLedge) (psicom) Benutzerseite
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Also ich benutze auch Bungard Platinen und H2O2&HCl, aber sowas ist mir 
noch nie untergekommen...


Hast du vllt. Fotos?

Autor: Markus Protze (adipin)
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@ Michael: eigentlich nicht, das "Rezept" habe ich nicht ganz im Kopf 
aber es war dem 770 - 200 - 30  hier aus dem Forum sehr ähnlich. Ich 
schlage das aber nochmal nach. Da ich inzwischen eine Ätzküvette für 
NaPS gebaut habe und mit den Ergebnissen auch sehr zufrieden bin werd 
ich wohl vorerst dabei bleiben. (Bis die Lösung verbraucht ist) Das 
Problem trat schon voriges Jahr auf, hab bis heute keine Antwort von 
Bungard bekommen. Und es reizt mich nach wie vor, nicht Heizen zu 
müssen, und die Chemikalien hab ich ja auch noch...

@ JÜrgen: Foto, nein ich hab die Platinen die sowieso hinüber waren 
"ganz" abgeätzt um sie als Epoxydpatte weiter zu verwenden, z.B. 
Isolationszwecke Abstandshalter etc.

Wenn ich wieder daheim bin und Zeit habe werde ich nochmal Versuche mit 
HCl machen, bin Student und die Woche über an der Uni... Dann fällt auch 
sicher ein Foto an.

Danke erstmal für die Antworten!

Autor: der Warze (Gast)
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Arbeite seit jahrzehnten mit HCL H2O2 mit verschiedensten Materialien - 
nie Probleme, mit NaPs schon (beaonders blöd ist das das Zeug nur warm 
einigermaßen ätzt)
 Hab auch einie etliche Jahre altes Bungard Material (Hartpapier, was 
ich kaum verwende) auch das geht noch bestens.
Ich denke das war ein Produktionsfehler.

Bin gespannt zu hören ob das wirklich nur ne Eintagsfliege war oder ob 
die (möglicherweise absichtlich) Rezeptur so geändert haben das es mit 
HCL-H2O2 nicht mehr geht, das wär Übel. Zum Glück hab ich noch 
ausreichend Vorrat.

Autor: Markus Protze (adipin)
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hm... Warum sollten "Die" das tun? Ich denke auch porfessionell wird 
damit geätzt, damit würden "Die" sich doch selbst ins Knie schießen....

Wie gesagt, weitere Tests folgen.

Autor: Markus Protze (adipin)
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aaalso:

Am Wochenende habe ich einen Ätzversuch mit HCl unternommen und was soll 
ich sagen... der Vorführeffekt. Entweder ich habe "damals" einen Fehler 
gemacht den ich heute nicht mehr mache oder der Photolack war damals 
tatsächlich verändert. Ich  hatte jedenfalls am Samstag keine Probleme 
beim Ätzen.

Vielen Dank trotzdem an alle!

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