Gast
#2442238
Hallo zusammen, ich bin gerade dabei von Mentor graphics auf Altium Designer 10 umzusteigen. In der Mentor Library habe ich bisher nach absprache mit unserem Schablonenherstellers immer umlaufend 10% die Paste Mask verkleinert. In Altium kann man das ja Jobspezifisch per Regel definition bestimmen,jedoch nur ein bestimmtes Mass z.b.(-0,02mm). Ist es möglich das auch prozentuall anzugeben oder muss man bei der Library erstellung wie vor 10jahren jedes Pad manuell manipulieren. Danke Gruß Para