Gast
#191569
Hallo, ich gehöre nun auch schon seit mehreren Wochen zu den Ätzern dazu. Es klappt auch eigentlich super. Ich habe nur folgendes Problem beim Entwickeln: Trägermaterial von Bungard FR4 1.5mm 35um Cu. Entwickler von SENO 4007 Universalentwickler NaOH-frei. Beim Entwickeln der Platinen löst sich der belichtete Photolack nicht vollständig ab. Es sind zwar deutlich die Strukturen zu erkennen, aber das Kupfermaterial ist gleichmäßig mit einem dünnen, schwärzlichen Belag bedeckt. Erst das Reinigen mit einer (nicht meiner) Zahnbürste entfernt diesen Belag. Das Ätzergebnis ist trotzdem gut. Ich habe die Belichtungszeiten variert. Nur mit mäßigem Erfolg. Auch habe ich die Entwicklerkonzentration angehoben. Ohne Erfolg. Vielleicht muss man den Entwickler auch im warmen (ca. 40-45°C) verwenden, entspräche aber nicht er Anleitung? Hat jemand eine Idee was ich da falsch mache. Oder ist die Bürstentaktik normal. Gruß die Bürste