Bungard positiv Resist, chem. Aufbau?

AlexS. Gast 19.10.2006 08:23 #426235

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Hey Leute!
Wollte mal fragen wie das Fotoresist von Bungard Platinen chemisch 
aufgebaut ist.

Es ist mit Aceton und Ethanol löslich (man kanns von der Platine 
wischen) und nach dem Belichten mit UV-A ist es mit 1% NaOH Lösung 
entfernbar. Wenn die NaOH zu stark ist, dann löst sich der komplette 
Lack ab.


Habt ihr ne Ahnung?

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sdfs Gast 19.10.2006 13:07 #426414

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http://de.wikipedia.org/wiki/Fotolack

Das müsste ein Polymer sein, in dem eine Substanz ist, die freie 
Radikale unter UV Licht bildet. Diese zerstören dann die Struktur und 
machen es anfällig gegen NaOH.

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