180nm, 65nm Technologie

#2518065
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Die Technologie sagt erst einmal nichts über die Gatelänge oder -breite 
aus. Die Technologie orientiert sich am halben Abstand zwischen zwei 
Leitungen.
http://www.halbleiter.org/lexikon/T/Technologieknoten/

Oder anders ausgedrückt(http://en.wikipedia.org/wiki/32_nanometer ):
>32 nanometer refers to the average half-pitch (i.e., half the distance between 
>identical features) of a memory cell at this technology level.


Und Wikipedia zu 65nm Technologie:
>The 65 nm process is an advanced lithographic node used in volume CMOS 
>semiconductor fabrication. Printed linewidths (i.e., transistor gate lengths) 
>can reach as low as 25 nm on a nominally 65 nm process, while the pitch between 
>two lines may be greater than 130 nm
http://en.wikipedia.org/wiki/65_nanometer

Die Technologie orientiert sich dabei an den Vorgaben der ITRS.
http://de.wikipedia.org/wiki/International_Technology_Roadmap_for_Semiconductors

LG Christian

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