Stören Eisenverbindungen in CuCl2 Ätzlösung?

OP #3732618
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Hi,
hier:
https://www.mikrocontroller.net/articles/%C3%84tzen_mit_luftregenerierten_Kupferchlorid
wird eine Methode zum ansetzen erklärt.

Meine  Lösung ist aus etwa 1kg FeIIICl entstanden, was verbraucht war 
und nun mit ca. 1,5l Hcl 20% und schätzungsweise 300g zusätzlichem 
Kupfer eine schöne klare grüne Flüssigkeit ergibt (ca. 5-7l). Mit der 
Ätzrate, die etwa die hälfte der beschriebenen Werte beträgt, bin ich 
nicht richtig zufrieden, was allerdings an der geringen Konzentration 
liegen könnte. Die Konzentration und Säuregehalt zu bestimmen fällt mir 
schwer, da die enthaltenen Eisenverbindungen die Messergebnisse 
vermutlich verfälschen. Auf die Wirksamkeit scheinen sie erstmal keine 
Auswirkung zu haben.

Soll ich neue Lösung sauber aus  purem Kupfer und Salzsäure ansetzen und 
die alte Lösung entsorgen? Den Sondermüll würde ich gerne sparen!

Schöne Grüsse
Flip
Gast #3732683
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Eisen-Ionen stören nicht in Kupferchlorid. Ätze meine SMD-Schablonen 
immer mit der gleichen Lösung wie auch die Platinen.

Würde aber dennoch ne neue Lösung ansetzen, wer will schon das färbende 
Zeugs...auch kann man so ja kaum sehen, ob die Lösung regeneriert ist 
oder nicht.
Könntest aber mit sehr sehr wenig Eisen3 starten, und daraus nach und 
nach ein fast reines Kupferchlorid-Ätzbad anlegen.
Gast #3735121
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Ich habe alu immer mit salzsäure geätzt und die reste reingekippt ist 
also  mittlerweile etwas alu drin.  Im cucl alu zu ätzen macht echt 
keinen sinn!. Salzsäure pur ist aber nicht so gut wie naoh pur.

Flip

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