Uwe Bonnes schrieb:
> 80u Linien/20 um Abstände
> verlangt m.e.a. 20 um Designregeln. Warum nicht 50/50 um?
Das ist in der Realität eine ziemlich akademische Frage: wenn die
Photomaske 20µ Abstände hat, muss man wegen der unvermeidlichen
Unterätzung sowieso eher mit 50/50 rechnen, wenn nicht noch schlimmer.
Die Maske so auszulegen, dass die Abstände NACH dem Ätzen 20µ betragen
wird meiner Meinung nach garnicht gehen.
Vermutlich liesse sich das Ganze nur realisieren mit additiver Technik
und Kupferauftrag in einer genau definierten Maske mit senkrechten
Kanten. Eine nette Forschungsaufgabe und ganz sicher alles andere als
billig.
@ Small: ohne Angabe der Kupferdicke ist sowieso die Machbarkeit nicht
zu untersuchen. Deine Leiterbahnen sind ja etwa so hoch wie breit. Also
ist erst mal die Mindestdicke zu spezifizieren.
Georg