Microchemicals Fotolack ist da, für die ersten Versuche nehme ich
einfaches Basismaterial, später wird aufgeschleudert auf polierte
Scheiben.
Dafür fehlt noch die geregelte Hotplate und die Luftaufbereitung.
Digitalbelichter ist ein UV Rasterbelichter, der schreibt direkt wie ein
Stepper, es wird direkt vom Computer auf die Fotoschicht belichtet.
Auflösung war auf 1000dpi eingestellt.
Das Ätzen mit CuCl2 findet in einem Schwallätzprozess mit
Chemikalienumlaufpunpe statt, hiee könnte ich auf Sprühätzen gehen.
Die Teststruktur enthält verschiedene Belichtungsstufen, daher sind
Bereiche bicht ausentwickelt und nur angeätzt.
Ich taste mich da schrittweise ran.
Nach meinen Nachlesen im "Fotolithographie" Handbuch von Microchemicals
vermute ich den Fehler im Entwicklungsprozess und der Belichtung.
Das "Rumfummeln" auf der Oberfläche (Pinsel und im anderen Fall mit den
Latexhandschuhen) ist "NoGo", ich hab das aus Reflex wie früher gemacht.
Ausserdem fehlte der ausgiebige Spülprozess, uch habe nur kurz
abgewaschen.
Das könnte das Bild auf der Testplatine erläutern.
Zu (3) - Warum kein CuCl2?
Ich benutze den Ansatz aus der Patentschrift mit NaSO4 Ionen, der sollte
perfekt sein und ist der reinen CuCl2 Lösung überlegen.
Das Schöne ist, dass man optisch kontrollieren kann und bei
Normaltemperatur arbeitet.
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