Hallo! Ich stelle schon länger hobbymäßig selbst Platinen her. Das Ätzen mit Salzsäure + Wasserstoffperoxyd hat auch immer gut geklappt, bis ich neuerdings Probleme mit Photobeschichtetem Material bekam. Belichten und entwickeln läuft super, aber dann gehts los: nach kurzer Zeit im Ätzbad lösen sich von dem Photolack immer schichtweise Teilbereiche ab, bis am Ende mein Layout stückweise oben auf der Ätzlösung schwimmt. Natürlich ist die Platine dann hinüber... Ich habe auch schon Versuche mit absolut unbelichtetem Material gemacht, selbes Ergebniss. Eine Mail an Bungard brachte leider keine Reaktion. Bin vorerst "zurück" auf Natriumpersulfat umgestiegen, damit klappts wieder ordentlich. Hat jemand schonmal sowas erlebt und / oder eine Idee woran es liegt? Danke!
Du solltest vielleicht mit Natriumpersulfat aetzen. Ist sicherer im Umgang und offensichtlich mit manchen Basismaterialien auch besser vertraeglich. Vielleicht hast Du auch nur Deine Loesung zu stark angesetzt?
Also ich benutze auch Bungard Platinen und H2O2&HCl, aber sowas ist mir noch nie untergekommen... Hast du vllt. Fotos?
@ Michael: eigentlich nicht, das "Rezept" habe ich nicht ganz im Kopf aber es war dem 770 - 200 - 30 hier aus dem Forum sehr ähnlich. Ich schlage das aber nochmal nach. Da ich inzwischen eine Ätzküvette für NaPS gebaut habe und mit den Ergebnissen auch sehr zufrieden bin werd ich wohl vorerst dabei bleiben. (Bis die Lösung verbraucht ist) Das Problem trat schon voriges Jahr auf, hab bis heute keine Antwort von Bungard bekommen. Und es reizt mich nach wie vor, nicht Heizen zu müssen, und die Chemikalien hab ich ja auch noch... @ JÜrgen: Foto, nein ich hab die Platinen die sowieso hinüber waren "ganz" abgeätzt um sie als Epoxydpatte weiter zu verwenden, z.B. Isolationszwecke Abstandshalter etc. Wenn ich wieder daheim bin und Zeit habe werde ich nochmal Versuche mit HCl machen, bin Student und die Woche über an der Uni... Dann fällt auch sicher ein Foto an. Danke erstmal für die Antworten!
Gast
#831554
Arbeite seit jahrzehnten mit HCL H2O2 mit verschiedensten Materialien - nie Probleme, mit NaPs schon (beaonders blöd ist das das Zeug nur warm einigermaßen ätzt) Hab auch einie etliche Jahre altes Bungard Material (Hartpapier, was ich kaum verwende) auch das geht noch bestens. Ich denke das war ein Produktionsfehler. Bin gespannt zu hören ob das wirklich nur ne Eintagsfliege war oder ob die (möglicherweise absichtlich) Rezeptur so geändert haben das es mit HCL-H2O2 nicht mehr geht, das wär Übel. Zum Glück hab ich noch ausreichend Vorrat.
hm... Warum sollten "Die" das tun? Ich denke auch porfessionell wird damit geätzt, damit würden "Die" sich doch selbst ins Knie schießen.... Wie gesagt, weitere Tests folgen.
aaalso: Am Wochenende habe ich einen Ätzversuch mit HCl unternommen und was soll ich sagen... der Vorführeffekt. Entweder ich habe "damals" einen Fehler gemacht den ich heute nicht mehr mache oder der Photolack war damals tatsächlich verändert. Ich hatte jedenfalls am Samstag keine Probleme beim Ätzen. Vielen Dank trotzdem an alle!