Hallo, wie kann ich aus einem Platinenlayout die parasitären RCL extrahieren? Ich bin da etwas planlos, wo ich suchen soll. Der Idealfall wäre, wenn es mit OrCad ginge, das hab ich verfügbar. mfg Frank
Nun - das R kannst Du bestimmen indem Du den spezifischen Widerstand von Kupfer mit der Leiterbahnlänge multipliziert und durch deren orthogonalen Fläche dividierst. Werden die Frequenzen höher, musst Du den Skineffekt mit der exponentiellen Abnahme der Stromdichte vom Rand der Leiterbahn berücksichtigen. L und C kannst Du nur längenbezogen (also F/m und H/m) ausrechnen. Oft kann man die aber mit einem kleinen Fehler mit der Leiterbahnlänge multiplizieren und es als konzentrische Bauelemente ansehen. Ausrechenn kann man L' und C' über die Beziehungen des magnetischen Flusses um den Leiter in Bezug auf den Strom sowie dem elektrischen Feld in Abhängigkeit der angelegten Spannung. Wenn man solche parasitären Elemente beachten, muss hat es sich aber bewährt mit der Leitungsimpedanz und der entsprechenden Leitungstheorie zu rechnen. Das ist nicht nur einfacher sondern macht die Betrachtung für Menschen erst fassbar. Denn RLC für etwas anderes als akademische Beispiele zu bestimmen funktioniert nur mit FEM-Simulationen. Viele Grüße, Martin L.
Ich hab mich da natürlich mal wieder unverständlich ausgedrückt und die Hälfte unterschlagen. Prinzipiell suche ich einfach ein SPEF-File für R und C der Platine. Ich habe ein Chiplayout gemacht. Das Tool fürs Chiplayout bietet die automatische Extraktion von R und C. Selbiges suche ich für die Platine um eine umfassende Simulation anschubsen zu können. Ich denk sowas sollte automatisch zu extrahieren sein. Vielleicht solt ich mal dazu besser in der HF-Ecke gucken (obwohl es mir nicht um HF geht). Frank
Bitte melde dich an um einen Beitrag zu schreiben. Anmeldung ist kostenlos und dauert nur eine Minute.
Bestehender Account
Schon ein Account bei Google/GoogleMail? Keine Anmeldung erforderlich!
Mit Google-Account einloggen
Mit Google-Account einloggen
Noch kein Account? Hier anmelden.