EUV Lithografie

Hallo an alle,

ich habe mal eine Frage: Zur Verkleinerung der Strukturgröße von 
Halbleiterstrukturen wird ja zurzeit an der EUV Technik gearbeitet. Aber 
so langsam frage ich mich, wie dass mit dem Photolack und der 
Strukturgröße zusammenpassen soll. Die C-Atome des Photolacks (Es wird 
nur langkettig angegeben, ich schätze mal so Anzahl C>25) sind doch 
aneinadergereiht, Platzbedarf der Hybridorbitale mit eingerechnet, so 
langsam doch schon länger als die Struktur selbst. Wie soll das bitte 
funktionieren?

Danke schonmal in Vorraus