Gast
#4533966
Hallo Leute, Ich habe ein Verständnisproblem hinsichtlich der Funktionsweise eines n-Kanal selbstsperrenden Mosfets. Wenn man am Gate- und Drainanschluss eine positive Spannung anlegt und an Bulk und Source eine negative Spannung. Dann werden ja die Elektronen vom Gate aus dem Bulk angezogen, aber können nicht ins Gate rein (wieso eigentlich?), stattdessen rekombinieren sie mit den Löcher des p-Si Substrats und werden zu Raumladungszonen. Meine Frage ist jetzt wie genau der n-Kanal entsteht. In erster Linie kommt es ja zu einer Verarmung von Löchern, weil diese rekombinieren, aber es werden immer noch Elektronen vom Gate angezogen. Lagern sich die Elektronen über diese Raumladungszone an oder wie kann man das verstehen? Oder ist der Kanal unabhängig von der Raumladungszone schon da, bedingt durch die Elektronen aus dem Bulk, die vom Gate angezogen werden? Vielen Dank im Voraus Xrill